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超临界发泡设备

超临界萃取设备的化学工业的作用是什么

超临界萃取设备的化学工业的作用是什么

发布日期:2018-10-22 编辑: 点击:

这个超临界流体工业化的应用,证明超临界二氧化碳,能有效的与传统民生工业在价格上作竞争.另外的清洗应用包括了金属零组件的清洗,商业用洗碗机与一般的家用清洗设备.

利用超临界二氧化碳,取代现行有机溶剂的染色技术,对于环保,废水处理与制造成本上,有非常多的优点.由于超临界二氧化碳流体,基本上的特性较接近气体,故对于应用于取代有机液体,进行聚酯纤维的染色技术制程而言,不会有排废问题的产生,这还包括了工业用水的减少,与有害工业废弃物的减量.在经济性的优点,还包括了产量的增加,减少能源的消耗,纤维染色技术工业化的应用成功,将增强染色技术在经济上的竞争力,和纺织工业制程操作的技术提升,更能有效减少废水的排放与染色的时间,对于时间,能源,环保与成本等层面,都是一大进步.因此,超临界流体染色技术,将会是更省时,更经济,更环保的新制程.超临界流体染色技术研究在工研院化工所的努力之下,将带领化工业者进入绿色化学时代的新摇篮.

超临界二氧化碳,提供了传统有机溶剂使用的另一种选择.除了在环保上的优点之外,对于温度,压力,流速,反应物浓度等反应变因的控制,使反应本身的控制更为容易,由于反应操作控制容易,也相对的增加了反应的选择性与产量.因此,反应本身能在较少的时间与空间上进行,对于设备成本投资的减少也是一大贡献,对于一些反应物本身在二氧化碳流体溶解度较小的物质,主要的技术克服要点在于乳化微粒(micelle)的形成,与其在二氧化碳流体中的动速率.在这方面的应用,以美国杜邦企业在北卡罗兰那州,投资达4,000万美金的新建研究工厂投资案,最受到关注,主要的研究方向就是想利用超临界二氧化碳,作为反应溶液,以生产含氟聚合物(fluoropolymer).

对于半导体晶片上光阻物质和蚀刻的残留物质,一直都没有一种有效的化学方法来去除,通常必须配合几种不同的方法与设备,例如电浆灰化(Plasmaashing )与湿式或乾式清洗,才能达到产品品质的要求,现有的湿式清洗方法是利用具侵蚀性的硫酸,双氧水或有机溶剂混合使用,这些传统的方法会产生大量的有机废液,对环境造成极大的冲击.因此包括隶属美国能源部著名的LosAlamos 国家实验室和其他各国的研究机构,也积极的在开发利用超临界二氧化碳处理技术,以去除半导体晶片上的上述的光阻物质,利用超临界流体技术处理方法,能有效的在单一清洗槽中,将半导体晶片上残留杂质清洗干净,由于超临界流体的表面张力和黏度非常的低,故能有效而且快速的将清洁溶剂,带到低于0.18μm的微细组织结构中,对于光阻物质及其衍生物的去除,同样的能大量的减少有害溶液的使用量,并减少废水的产生,更重要的是简化了制程并增加产量.

此外,下列的化工产业也开始使用超临界二氧化碳萃取技术,以降低生产过程的污染物产生

A.石油残渣油的脱沥

B.原油的回收,润滑油的再生

C.烃的分离,煤液化油的提取

D.含有难分解物质的废液的处理

文章来源于网络

二氧化碳萃取

二氧化碳萃取

本文网址:/news/416.html

关键词:二氧化碳萃取,气凝胶设备,超临界发泡设备

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